IT之家 4 月 18 日音书，荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣告，其首台采用 0.55 数值孔径 (NA) 投影光学体例的高数值孔径 (High-NA) 极紫表 (EUV) 光刻机一经胜利印刷出首批图案，这象征着 ASML 公司以及所有高数值孔径 EUV 光刻技巧规模的一项强大里程碑。

　　ASML 公司正在声明中暗示：“咱们位于埃因霍芬的高数值孔径 EUV 体例初次印刷出 10 纳米线宽（dense line）图案博鱼电竞。此次成像是正在光学体例、传感器和转移平成粗调校准后完毕的。接下来咱们将竭力于让体例抵达最佳机能浮现博鱼电竞，并最终正在实际临蓐境况中复造这一劳绩博鱼电竞。”

　　目前宇宙上仅有两台高数值孔径 EUV 光刻体例：一台由 ASML 公司正在其荷兰埃因霍芬总部筑造（该公司还与比利时当先的半导体斟酌机构 Imec 正在此地拉拢设立了 High-NA 试验室），另一台则正正在美国俄勒冈州 Hillsboro 邻近英特尔公司的 D1X 晶圆厂拼装。

　　ASML 公司好似是第一家宣告运用高数值孔径 EUV 光刻体例胜利举行图案化的公司印刷，这看待所有半导体行业来说都是一个强大冲破。值得一提的是印刷，ASML 公司的 Twinscan EXE:5000 型光刻机将仅用于其自己研发以及技巧改革。

　　英特尔公司则将欺骗其 Twinscan EXE:5000 型光刻机研习若何运用高数值孔径 EUV 光刻技巧举行芯片量产。英特尔计算将其用于其 18A (1.8nm 级) 造程工艺的研发，并将正在他日的 14A（1.4nm 级）造程产线中布置下一代 Twinscan EXE:5200 型光刻机。

　　与目前 13nm 别离率的 EUV 光刻机比拟印刷，ASML 公司装备 0.55 NA 镜头的新型 Twinscan EXE:5200 型光刻机可能完毕 8nm 的超高别离率博鱼电竞博鱼电竞，这是一个明显的提拔。这项技巧准许正在单次曝光下印刷出尺寸减幼 1.7 倍、晶体管密度升高 2.9 倍的晶体管。比拟之下，古板的低数值孔径 (Low-NA) 体例固然可能抵达相通的精度，但却需求运用高贵的双重曝光技巧印刷。

　　完毕 8nm 造程看待筑造计算正在 2025-2026 年上市的 3nm 以下造程芯片至闭要紧。高数值孔径 EUV 技巧的引入将消逝对 EUV 双重曝光的需求，从而简化临蓐流程、有不妨升高产量并低重本钱。然而，每台高数值孔径光刻机的价钱高达 4 亿美元（IT之家备注：目下约 28.96 亿元群多币），而且正在运用于尖端造程工艺的进程中会遭遇诸多寻事博鱼电竞。ASML High-NA EUV光刻机获得庞大打破：凯旋印刷博鱼电竞10纳米线宽图案